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这里有您关心的企业动态与行业资讯SEMITOOL产品中的SRD旋转冲洗甩干机是根据国际、国内半导体产业的发展和市场需求，研究开发的旋转冲洗甩干设备。该机型具有高洁净度旋转冲洗甩干功能。本系列机型可以适应从φ25mm到φ200mm直径（包括方形和其它特殊形状）片式材料的旋转冲洗甩干工艺。可用于半导体晶片、砷化镓材料、掩膜版、太阳能电池基片、蓝宝石、铌酸锂、光学镜片、磁盘、光盘、医用玻璃基片等类似材料的高洁净度冲洗甩干。是半导体湿法清洗工艺中必不可少的主流设备之一。
SEMITOOL GASS旋转清洗干燥机
描述：
SEMITOOL GASS旋转清洗干燥机采用去离子水冲洗和加热的氮气干燥全自动晶片衬底后的湿化学方法。有两个双层干衣机和洁净室中一堆烘干机。该系统使用一个可编程的方法来自动处理晶圆。
规格/性能：
一种电阻率探针可监测浴中的化学浓度，以确保完全去除化学品。
无点式干燥氮气加热器。
可编程的食谱包括漂洗，质量冲洗，清洗，和干燥周期。
支持样本量：
大晶片直径：200毫米（8英寸）
晶圆直径：75毫米（3英寸），100毫米（4英寸），150毫米（6英寸），和200毫米（8英寸）。
掩模尺寸：125毫米（5英寸），150毫米（6英寸）。
支持的小片段：没有。
应用：
晶圆和掩模清洗和干燥。
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