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主要应用在半导体晶体材料的生长工艺过程中,对石英坩埚内壁镀碳处理,能够有效阻隔高温溶体与石英坩埚的反应,有利于完整、高质量单晶体的生产。
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应用范围:
产品特点:
■ 全自动控制,多段温区加热;
■ 温控精度高、成膜均匀性好;
■ 适用于多种规格安瓿。
致敬火焰蓝,夏日送清凉
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