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主要应用于新型材料的升华提纯、电子陶瓷产品的预烧结、退火等领域,也可作为CVD镀膜设备使用,可以外置等离子体发生装置。
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应用范围:
产品特点:
■ 全自动控制,设备密封性可靠;
■ 温控精度高,取放样品方便;
■ 可外置等离子体发生器,用途广泛。
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