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这里有您关心的企业动态与行业资讯电阻蒸发镀膜机（Resistance Evaporation Coater）,利用膜材加热装置，让膜材原子进行热运动逸出膜材表面，在真空环境下，沉积到样品表面，如果加入带有动能离子的话，射击靶材，将靶材原子“碰撞”出来，产生离子溅射效应。溅射出来的离子会沉积到样品表面，形成密度更大的靶材相关的薄膜，这是真空电阻蒸发溅射镀膜设备中的镀膜技术。
磁控溅射镀膜机（Magnetron Sputtering Coater）,由真空专用不锈钢腔室、三只3英寸圆形平面磁控靶；直流、射频溅射电源三台。机械泵＋分子泵高真空系统、旋转、加热基片台（室温至300±1℃可调可控）、机架、气路、水路、逻辑按钮控制及安全保护等组成。该设备选配电源可具备三靶共溅射功能，实现一机多用，可开发纳米级单层或多层的导电膜、半导体膜、绝缘膜等。整机结构紧凑、占地小、操作方便、抽真空速度快。
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